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Technology

Coating

真空蒸着

真空蒸着

真空蒸着は高真空容器の中で物質を加熱し、蒸気化した物質を基板に付着させる技術です。
ここで高真空と申します圧力は10-4Pa(大気圧のおよそ1億分の1の圧力)を指します。またスパッタに比べ成膜速度が速いことも特徴です。さらに膜応力が小さいことも特徴の一つです。
更新空中で成膜されるため、膜が汚染される可能性が低く、スループットが早いので安価かつ高度な基板変形の少ない光学薄膜の供給が可能です。

特徴

  • クリーンルームによる真空蒸着
  • 優れた外観品質(5ミクロン対応)
  • 高透過特性、高遮断特性
  • 優れた環境品質
  • クリーンルーム内での高品質で高精度な蒸着
  • 効率の良い生産管理システム
  • 信頼性のある品質管理システム

用途例

  • IRカットフィルター
  • UV-IRカットフィルター
  • ダイクロミラー
  • etc

コーティングの仕様

蒸着方式
  • 誘電体多層膜蒸着
光学特性(標準タイプ)
  • 半値:T=50%:650±10nm
  • 可視透過帯:420-620nm Tmin≧85% Tave≧90%
  • 赤外遮断帯:700-1100nm Tave≦5%
  • その他、お客様のご要望に対応致します。
光学特性(UV-IRタイプ)
  • 半値:T=50%:650±10nm 410±10nm
  • 可視透過帯:430-620nm Tmin≧85% Tave≧90%
  • 赤外遮断帯:700-1100nm Tave≦5%
蒸着基板
  • Schott D263
  • B270
  • その他各種光学ガラス
外観仕様
  • 高画素に適した外観品質(10ミクロン対応)
  • すぐれた環境品質
    ※ 85℃、RH85% 500h
    ※ 85℃(0.5h)→ -40℃(0.5h)100サイクル
厚さ
  • 0.3mm,0.21mm,0.175mm,0.145mm,0.1mm

その他お客様のご要望に対応致します。

ガラス基板へのコーティング サンプル写真

コート品
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真空蒸着
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真空蒸着
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