４月１９日から２１日まで神奈川県横浜市で開催された「ＯＰＩＥ’２３」に
出展させていただきました。
出展内容
・ワイドバンド可視化カメラ「ＴＲＩＮＥＡＲ」の要素技術の開発発表
・タナカ技研の事業展示 カット・蒸着・印刷・組立 一部サンプル展示
おかげさまで、多くのお客様にご来訪いただき、当社の技術と事業をご覧いた
だきました。
遠方にもかかわらず、ご来訪いただきましてありがとうございました。
当社ブースでご依頼いただきました件につきまして、順次当社の営業よ
り、改めてご連絡させていただきます。
今後とも当社の事業にご愛顧を頂けますようよろしくお願いいたします。
当日ご覧いただけなかった皆様に当社の展示物、資料を順次こちらに掲載し
てまいります。