Technology
真空蒸着
真空蒸着とは、真空中で物質を加熱して、溶融・蒸発または昇華させ、
基板の表面に粒子を付着・堆積させることで薄膜を形成する技術です。
タナカ技研のアドバンテージ
- クリーンルームによる真空蒸着
- 優れた外観品質（10ミクロン対応）
- シフトレス
- 高品質、高耐久性に対応
- 24時間稼働によるリードタイムの短縮
- 設計から試作、小口、量産まで対応
用途
- カメラ
- レーザー
- センシング
- 光学機器
- 分析機器
- 半導体
- 通信
- 医療
コーティングの仕様
蒸着方式
成膜カテゴリー
- IRカットフィルター
- バンドパスフィルター
- バンドストップフィルター
- デュアルバンドパスフィルター
- ローパスフィルター
- ロングパスフィルター
- 偏光分離フィルター
- ミラー
- ハーフミラー
- NDフィルター
- 各種反射防止膜
- etc
対象基材
- 各種ガラス
- プラスチック
- 光学結晶
- レンズ
- プリズム
- etc
対象形状
環境耐久性
- 高温高湿試験(85℃85％RH×1,000h以上)
- 高温放置試験(105℃×1,000h以上)
- 熱衝撃試験(-40℃⇔105℃ 1000cyc以上)
厚さ
その他お客様のご要望に対応致します。
サービス・商品に関するお問い合わせは、お電話またはメールにて受け付けております。
