真空蒸着は高真空容器の中で物質を加熱し、蒸気化した物質を基板に付着させる技術です。
ここで高真空と申します圧力は１０－４Ｐａ（大気圧のおよそ１億分の１の圧力）を指します。またスパッタに比べ成膜速度が速いことも特徴です。さらに膜応力が小さいことも特徴の一つです。
更新空中で成膜されるため、膜が汚染される可能性が低く、スループットが早いので安価かつ高度な基板変形の少ない光学薄膜の供給が可能です。